PECVD

Prinzip + Anwendungsbereiche

Beim PECVD-Prozeß (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) werden plasmaunterstützt dünne Schichten aus der Gasphase abgeschieden. 

Dieses Verfahren wird in der Halbleiterindustrie und in vielen Bereichen mit ähnlichen Anforderungen (Flat Panel Displays, Photovoltaik, Sensortechnik) eingesetzt. 

Zum Einsatz kommt auch hier ein Parallelplattenreaktor.